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石川 法人; 知見 康弘; 黒田 直志*; 岩瀬 彰宏; 神原 正*
Phys. Scr., T80(B), p.559 - 561, 1999/00
被引用回数:3 パーセンタイル:33.42(Physics, Multidisciplinary)高速イオン照射による電子励起が欠陥生成におよぼす効果を調べるため、高温超伝導体と鉄に高速イオンを照射し、電気抵抗率変化を調べた。その結果、どちらの材料についても、照射効果は、電子的阻止能に依存するようにみえるが、それだけでなく入射イオンの速度にもよることがわかった。